Conte aos seus amigos sobre este item:
Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond - Springer Theses 2019 edition
Guilei Wang
Preço
R$ 619,90
excluindo impostos
Item sob encomenda (no estoque do fornecedor)
Espera-se estar pronto para envio 28 de out - 3 de nov
O que dizem nossos clientes:
Adicione à sua lista de desejos do iMusic
Também disponível como:
Investigation on SiGe Selective Epitaxy for Source and Drain Engineering in 22 nm CMOS Technology Node and Beyond - Springer Theses 2019 edition
Guilei Wang
115 pages, 40 Tables, color; XVI, 115 p.
| Mídia | Livros Hardcover Book (Livro com lombada e capa dura) |
| Lançado | 2 de outubro de 2019 |
| ISBN13 | 9789811500459 |
| Editoras | Springer Verlag, Singapore |
| Páginas | 115 |
| Dimensões | 454 g |
Ver tudo de Guilei Wang ( por exemplo Hardcover Book e Paperback Book )